钴铁硼溅射靶材 (CoFeB)
| 材料类型 | 钴铁硼靶 (CoFeB) |
|---|---|
| 元素符号 | CoFeB |
| 纯度 | 2N5,3N,3N5,4N |
| 尺寸 | 按需求 |
| 形状 | 平面/圆形/异形靶 |
| 交期 | 1-3周 |
| 定制 | 支持定制 |
| 绑定服务 | 支持 |
| 用途 | 半导体、显示面板、光学器件、太阳能及功能涂层 |
产品简介
钴铁硼 (CoFeB) 溅射靶材描述：
钴铁硼 (CoFeB) 合金靶材是自旋电子学和磁存储领域的关键材料。
高端应用（例如半导体和医疗器械）通常需要纯度达到 99.9% (3N) 或更高，
以严格控制杂质含量，特别是氧 (O)、碳 (C) 和氮 (N) 等元素的含量。
常用配比：
CoFeB 60/20/20 at%
CoFeB 40/40/20 at%
可根据客户镀膜设备（例如磁控溅射机）的具体要求进行定制加工：
平面靶、圆形靶和不规则形状靶。
应用领域：
生物医学
航空航天
信息存储
半导体和微电子
新能源和海洋工程
磁记录介质：用于制造硬盘驱动器 (HDD) 的磁性薄膜。
传感器：磁传感器件中的传感层。
导电层和阻挡层：用于半导体器件中的薄膜沉积。
电极材料：用于制备显示技术（例如 TFT）中的电极。
CoFeB-3N-COA
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